Міжуніверситетський бельгійський центр з мікроелектроніки (imec) представив новаторський пристрій, що використовує кубіти, засновані на квантових точках. Цей пристрій створено за допомогою High-NA EUV-літографії.
Ключовим досягненням є не тільки сам факт створення, але й висока щільність компонування: критичні елементи були надруковані з мінімальними проміжками близько 6 нм. Це надзвичайно важливо для таких кубітів, оскільки взаємодія між сусідніми квантовими точками посилюється експоненційно зі зменшенням відстані між ними.
У imec зазначили, що впровадження High-NA EUV дозволяє перейти від поодиноких лабораторних демонстрацій до створення відтворюваних кубітів, сумісних із 300 мм пластинами.
Раніше в imec наголошували, що для масштабування необхідні повний перехід на 300 мм процес виробництва та використання більш універсальної архітектури квантових точок, що має усунути обмеження, пов’язані з провідниками.
Галузь потребує не тільки високоякісних, але й масштабованих кубітів. В imec переконані, що квантові біти, засновані на спіні електронів у кремнієвих квантових точках, є перспективними, оскільки вони дозволяють одночасно покращувати характеристики самих кубітів та підвищувати масштабованість виробництва.
imec повідомив, що EUV-літографія забезпечує кращу точність вирівнювання шарів під час виробництва мікросхем у порівнянні з E-beam-інструментами. Це є критично важливим для кремнієвих кубітів, адже стабільність системи залежить не тільки від мінімального розміру елементів, але й від точності розташування керуючих електродів, контактів та металізації відносно один одного.
Окремо в imec підкреслили, що High-NA EUV наразі залишається надзвичайно рідкісною технологією.
Нагадаємо, у травні глобальна директорка з продажів IBM Quantum Петра Флоризун заявила, що квантові обчислення виходять за межі лабораторних експериментів і починають застосовуватися для вирішення реальних задач.